概述

在脫硝工藝氣體監(jiān)測中，出口的逃逸氨（殘余氨）濃度檢測非常重要，因為逃逸氨是反映和考評脫硝效率的指標之一，同時過量的逃逸氨生成的銨鹽會嚴重影響后續(xù)空預器等設備正常運行，因此NH3逃逸監(jiān)測也是目前國內(nèi)脫硝工藝中煙氣監(jiān)測的重點和難點。華敏測控脫硝氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)，針對脫硝的工藝特點和監(jiān)測難點而開發(fā)設計的一款全程超高溫抽取激光檢測分析系統(tǒng)。適用于眾多工業(yè)領域的氣體排放監(jiān)測和過程控制，如：燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等等。

檢測的目的

在脫硝時NH3的注入量既要保證有足夠的氨氣與氮氧化物反應，以降低氮氧化物的排放量，又要避免煙氣中逃逸過量的氨氣，注入過量的氨氣不僅會增加腐蝕，縮短SCR催化劑的壽命，還會污染煙塵，增加空氣中預熱器中氨鹽的沉積，以及增加向大氣的氨氣的排放。

氨逃逸的危害

u  逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染；

u  氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

u  逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫硝下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

u  過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

達到合格的脫硝率同時保證比較低的氨氣逃逸率是SCR工程中的一個難點。為保證脫硝反應能充分地進行。防止因為局部噴氨不足或噴氨過量影響系統(tǒng)運行。通過控制催化反應后NOX含量均勻分布來達到降低氨逃逸率提高脫硝效率。

具體反應如下：

氨氣逃逸出來，將產(chǎn)生副反應，這是氨逃逸系統(tǒng)最害怕的地方。主要副反應有：

4NH3+2SO2+O2+2H2O=2（NH4）2SO4

2NH3+2SO2+O2+2H2O=2NH4HSO4

硫酸銨在高溫下400多度是固體粉末態(tài)，可能堵塞SCR催化劑、覆蓋空氣預熱器降低效率。

而硫酸氫銨在200多度下呈液態(tài)，具有強腐蝕性，將破壞SCR催化劑并反應結塊，還可能腐蝕影響下游設備。如空預器污損、效率下降、漏風率增大等。過量氨還影響后續(xù)脫硫（FGD處）效率。

另外，氨監(jiān)測，可合理投放物料，免致浪費物料和污染。

相關關鍵詞：火電廠脫硝  水泥廠脫硝  SCR  標準 規(guī)范

我找了兩個：《國外氮氧化物排污標準》、《DLT 335-2010 火電廠煙氣脫硝系統(tǒng)運行技術規(guī)范

氨逃逸的檢測與治理

一、    產(chǎn)品概述

TK-1100型氨逃逸監(jiān)測系統(tǒng)

脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)是由我公司榮譽出品，本系統(tǒng)包括預處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術及可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續(xù)光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術已經(jīng)廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領域。

本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

    2.1 氨逃逸的形成

     在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區(qū)的空間分布便可以最大化的降低NOX 排放。氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。

    2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

三、規(guī)格與技術參數(shù)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介

本系統(tǒng)的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統(tǒng)進入測量狀態(tài)后，電動執(zhí)行機構帶動兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術（TDLAS）對氣體進行分析，得到NH3的濃度（高溫熱濕法），最后排空。

    系統(tǒng)定時會進入校準狀態(tài)進行自動調(diào)零，此時兩通球閥切換到校準氣路，校準電磁閥打開，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準電磁閥后進入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃，吹掃干凈后，對NH3進行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時會進入反吹狀態(tài)對采樣探頭進行反吹，此時兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統(tǒng)自動控制反吹電磁閥開或關，實現(xiàn)對探頭過濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機箱

取樣探頭

裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下：

結構：裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。

機箱規(guī)格：

本系統(tǒng)集成于機箱，具體尺寸如下圖：

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